半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质，同时伴有对硅、尘粒、有机碳、微生物等物质含量的要求各不一。

电子工业用超纯水的工艺流程

电子行业制备超水的工艺大致分成以下几种：

1、采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水→沙、碳过滤器→精密过滤器→原水箱→阳床→阴床→混床→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点

2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式，其基本工艺流程为：原水→沙、碳过滤器→精密过滤器→反渗透设备→原水箱→纯水泵→混床→后置精密过滤器→纯水箱→用水点

3、采用反渗透水处理设备与电去离子（EDI）设备进行搭配的的方式，这是一种制取超纯水的最新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→沙、碳过滤器→保安过滤器→一级反渗透设备→原水箱→二级反渗透设备→纯水泵→电去离子（EDI）→纯水箱→输送泵→UV灯→精混→精密过滤器→用水点

4、采用反渗透+混合床方式，其流程如下：

原水→原水加压泵→砂、碳过滤器→保安过滤器→反渗透→中间水箱→中间水泵→混合床→微孔过滤器→用水点

 

电子工业用超纯水的应用领域

1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路；

2、超纯材料和超纯化学试剂；

3、实验室和中试车间；

4、汽车、家电表面抛光处理；

5、光电产品、液晶显示器

6、其他高科技精微产品等。

      为满足用户生产工艺用水需求，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量。在工艺设计上，源水（市政自来水），经多介质过滤器，活性碳过滤器，钠型阳离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）装置等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，由PLC控制系统完成包括阻垢剂计量泵、高压泵、电动慢开门的顺序启动和停止；停运时反渗透装置的自动低压冲洗；运行过程中低压压力开关与系统的连锁运行；各转动设备的运行监测和报警等。

      新兴的光电材料生产、加工、清洗；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。